西格玛光机光学基准件

西格玛光机光学基准件可以将具有高精度的反射波面或透过波面的平面光学基板，加工为客户要求的形状或尺寸，可以制造大为φ300mm的大口径光学抛光产品。也可以进行孔加工或长方形外形等的特殊加工。

特点：

●附有由干涉仪测量的反射波面，或透过波面的测量数据。

●根据精度要求和使用环境，可以从各种低膨胀材料（玻璃）中选择基板材料。

●也可以在光学基准上镀膜。但是，根据镀膜的种类的不同，有时也不能保证面型精度。

信息：

>>>另外备有以反射面精度为标准的光学样板（HMPQP/HMPZP）。

>>>另外备有φ150mm以下的面型精度为λ/10的平面基板（OFPXP）。

注意：

1.抛光后蒸镀薄膜时，有时不能保证面型精度。

2.根据材料的购买状况和加工难度，制造时间有时会延长。请向营业部门确认。

3.把光学基准固定到支架时，如果使用螺纹拧紧固定，或使用硬化性粘接剂，光学基准的面型精度有时会变差。

通用指标：

大外径　　　　　　　　　　φ300mm

适当厚度　　　　　　　　　　50～38mm(约直径的1/6～1/8为标准)

有效直径　　　　　　　　　　外径的90%

材质　　　　　　　　　　　　合成石英或各种低膨胀玻璃

面型精度　　　　　　　　　　λ/10(随外径，厚度而变化。)