西格玛光机低散乱光学平面基板通过对平行平面基板和楔形基板进行特殊的抛光，表面粗糙度控制在0.2nm（Ra）以下，可以作为需要减少基板的散射影响的高能量激光用反射镜或X线用反射镜的基板使用。

西格玛光机低散乱光学平面基板

特征：

●楔形基板用于希望清除分光镜等反面反射的影响时。

● CaF2（氟化钙），MgF2（氟化镁）在紫外谱区和红外谱区具有较高的透过性。

● 表面粗糙度（微观的凹凸）和面型精度（面整体的平坦程度）都进行了高精度加工，基板接近理想平面。

通用指标：

材质　　　　合成石英　紫外用CaF2　MgF2

表面粗糙度　＜0.2nm(Ra)

有效直径　　外径的90%

信息：

>在楔形基板厚的地方印有指向正面的箭头符号。

注意：

1.低散射基板的两面都没有镀膜。玻璃表面存在2.5％?4％的反射。

2.透过楔形基板使用时，光束会有0.5°左右的倾斜。

3.CaF2表面很容易受损，不能用纸擦拭。请使用清洁用压缩气罐去除灰尘。

4.CaF2, MgF2长时间放置在高湿度的环境下时，表面会变得粗糙。不使用时，请保管在自动干燥箱等湿度较低的环境中。