西格玛光机真空用底座是一种用于真空环境中的底座，西格玛光机提供了多种规格型号的真空用途底座，以适应不同的应用场景和设备需求。

规格型号

常见的有不同尺寸的底座，如小型、中型和大型，以匹配不同尺寸的真空腔和负载要求。其尺寸范围通常从几十毫米到几百毫米不等，例如小型底座的边长可能在 50mm 左右，而大型底座的边长可达 300mm 以上。还有不同材质的底座可供选择，包括铝合金、不锈钢等。铝合金底座具有质量轻、导热性好等优点，适用于对重量和散热有要求的场合；不锈钢底座则具有更高的强度和耐腐蚀性，适用于高真空、强腐蚀等恶劣环境。

结构特点

低出气量设计：在真空环境中，出气量大会影响真空度的稳定性和维持成本等。西格玛光机真空用途底座采用特殊的材料和制造工艺，有效减少了出气量，确保在真空腔内使用时不会因底座自身出气而破坏真空环境。

通气孔或槽加工：其螺纹孔等部位都加工了通气孔或槽，这一设计可以使气体在真空环境下更顺畅地流通，避免因局部气压不均而产生的问题，如影响真空度的快速建立、导致部件之间的吸附或受力不均等。

功能优势

灵活固定立柱支架：搭配真空用固定块（VRC），能够在任意位置固定真空用立柱支架，满足不同实验或生产需求中对支架位置的精确调整和固定，方便在真空腔内搭建各种结构。

节省空间：立柱支架可互相接近，使得在有限的真空腔体内能够更合理地利用空间，布置更多的设备或部件，提高空间利用率。

应用场景

光学实验与研究：在需要在真空环境中进行的光学实验中，如高分辨率光谱分析、激光物理实验等，用于固定光学元件、反射镜、透镜等的支架，确保光路的稳定和精确。

真空镀膜设备：在真空镀膜过程中，作为蒸发源、溅射靶材等的支撑底座，保证镀膜材料在真空环境下能够均匀地沉积在基底上，提高镀膜质量。

半导体制造：在半导体芯片制造的光刻、蚀刻等工艺中，为光刻机的镜头、掩膜版等部件提供稳定的支撑和精确定位，确保芯片制造的精度和质量。

更多产品详细信息>>>芬创商城

上海芬创信息科技有限公司2004年成立至今，作为专业的光机电产品和技术服务提供商，芬创科技长期致力于将国际上先进的真空用底座及研究方法介绍引进到中国；专注为中国的光学电子/微电子/激光应用/生物/医药/物理、光学研究机构/计量检测机构/机械加工用户提供高品质的真空用底座和技术服务。