芬创技术创新：申请激光跟踪仪立体标准器测量系统及测量方法专利，精度再升级

来源：“金融界”

金融界 2024 年 9 月 11 日消息，天眼查知识产权信息显示，上海芬创信息科技有限公司申请一项名为“一种基于激光跟踪仪的立体标准器测量系统及其测量方法“，公开号 CN202411044172.9，申请日期为 2024 年 7 月。

专利摘要显示，本发明为一种基于激光跟踪仪的立体标准器测量系统及其测量方法，采用平面反射装置使激光跟踪仪的激光光路发生镜面折转而改变其激光光路，使激光跟踪仪镜像原点与立体标准器两两顶点的靶球处在同一测量轴线上，减少需对立体标准器进行多次搬动调整位置的动作，即可实现激光跟踪仪干涉测距模块的高精度测量工作，实现激光跟踪仪干涉模块测量立体标准器的各边长，再根据立体标准器的几何关系，以立体标准器的四个顶点建立笛卡尔坐标系，建立顶点-边长关系方程，计算出各顶点的坐标值，从而获得立体标准器各顶点的参考坐标值。本发明操作便捷、测量精度高、不受限于立体标准器尺寸大小，实现了立体标准器各顶点坐标值的精确测量。

上海芬创信息科技有限公司的这一专利成果，不仅是对公司技术实力的有力证明，更是对行业发展的积极贡献。我们有理由相信，上海芬创信息科技有限公司将在光学测量领域书写出更加辉煌的篇章，为科技进步与产业升级贡献更多“芬创力量”。