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AF-I
AF-77VB
AF-77VB-C
AF-173VA-RE
 		自动对焦显微镜
应用：
液晶制造过程中微细的检测
半导体制造过程中微细的检测
其他需要进行多次微观自动成像的应用
特别是针对透过率高的光学材料和反射率低的半导体材料等

特征：
全世界唯一一套使用线阵CCD的自动对焦显微镜
显示出其他方法不能达成的针对高透过率材料的高性能，例如：玻璃，塑胶，薄膜，以及金属表面等
同样也可以应用于低反射率材料
在追踪模式或者连续模式下，可以追踪到样本的波动和倾斜
使用我们专利的线阵CCD方法，能够实现高的重复性
消除各种问题，如孔等，实现高速、高精度自动对焦
自动对焦原理图
AF方法介绍：
      通过比较两个不同光路过来的信号，AF控制器将模拟和数字混合，实现高速的计算。 		AF掩模板：
      在反射照明单元的光阑位置有一个AF掩模板，AF系统投射斑纹到样本上，使用线阵CCD探测信号。 		驱动部分：
      
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